Der K&F Concept Nano-C HMC UV-Filter ist ein unverzichtbares Zubehör für Fotografierende, die Wert auf den Schutz ihrer Ausrüstung und die Verbesserung der Bildqualität legen. Mit einem Durchmesser von 55 mm ist dieser UV-Filter speziell für Objektive mit entsprechendem Gewinde konzipiert. Er schützt nicht nur vor Staub, Schmutz und Fingerabdrücken, sondern bietet auch einen zusätzlichen Schutz gegen mechanische Beschädigungen der Frontlinse. Die innovative 18-lagige HMC-Beschichtung reduziert Reflexionen und Blendungen, was zu einem verbesserten Kontrast und einer höheren Klarheit der Aufnahmen führt. Der ultradünne Rahmen mit einer Dicke von nur 3,3 mm minimiert das Risiko von Vignettierung, selbst bei Weitwinkelaufnahmen. Der Filter wird in einem schützenden Kunststoffkoffer geliefert, der einen sicheren Transport gewährleistet und die Langlebigkeit des Produkts unterstützt.

• Kompatibel mit 55-mm-Gewinde für vielseitige Anwendung
• Schutz vor Staub, Schmutz und Fingerabdrücken
• Reduziert Reflexionen und Blendungen für klarere Bilder
• Ultradünner Rahmen zur Vermeidung von Vignettierung
• Hergestellt aus hochwertigem japanischem optischen Glas.